半导体含氟废水怎么处理方法|半导体含氟废水处理案例
工程项目环境
该工厂职业 加工半导体芯片用高纯氟化氢和六氟化钨,废水除理方法氟氧浓度特别高且成分表非常复杂。以往除理工学艺感觉不增强,氟化物减排有时重金属超标。好项目人2300万元施工正规除理生活设施,开发除理作用500吨/天。
废气化学物质及源
废水处理方法最主要是来自于生孩子环保设备除污和排放物洗洁:
氟铁离子质量浓度:1500-3500mg/L
含盐酸根正离子:2000-5000mg/L
pH值:1-
含进样器钨、钼等不锈钢种元素
办理加工过程过程
针对于高溶液浓度显著特点,采用了"与+多用沉积+膜进行处理"方法:
焦化废液抽取池:总类抽取差异渗透压焦化废液
采和响应池:分过程污泥脱水氢硫化钠和氢硫化钙,的控制不可能pH至7.5-8.
二沉池想法池:加药PAC和PAM开展沉垫的效果
斜管发展池:优质固液隔离
多材质筛选器:洗去犬细小顆粒
反构建整体:角度脱盐和除氟
厌氧颗粒污泥处理精炼出现脱水处理系统化:离心式出现脱水处理后厌氧颗粒污泥处理土石方技术专业处理
线探测软件:实时更新摄像头监控氟化合物含量和pH值
以后作用
除理机系统使用数据资料:
取水氟亚铁离子差不多氨水浓度:2800mg/L
水流氟阳离子盐浓度:3.2mg/L(差不多)
氟清除率:99.9%上面的
水中水回用率:以达到65%
平台一键化程度上高,实行废水清理清理成本投入减小30%,年回收分类处理氟化钙副商品约400吨。